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LNEYA機器機能の一部紹介


1.1.1工業用チラー(SUNDIシリーズ)は、反応器の冷却および加熱に適用され、特に加熱および発熱プロセスに適している。これは、原子炉内の材料温度を制御することができ、プログラム制御モードを選択することができます。熱伝導媒体と材料温度差も設定することができます。全システムは、高温でオイルミストを生成せず、低温で水を吸収する完全閉サイクルを採用しています。システムには拡張タンクがあります。システムには拡張タンクがあります。冷凍の加熱プロセスの間に、熱媒体の熱伝導率が膨張および収縮する。

1.1.2加熱冷却装置(HR / HRTシリーズ)は、反応器の冷却及び加熱に適用され、特に加熱及び発熱プロセスに適している。主に熱伝導媒体の温度を制御します。

1.1.3水冷空冷チラー(LX / LT / FLシリーズ)の主な機能は、蒸留晶析精製装置の温度制御、半導体製造装置、レーザー装置などの産業機械加熱部品の加熱部分の冷却です。

1.1.4加熱サーキュレータ(UCシリーズ)は、高温加熱プロセスに適用されます。システム全体の液体循環は閉じており、高温でオイルミストが蒸発することはありません。熱伝導オイルは酸化とブラウニングではありません。水冷式のUCシリーズは、水を介して200℃〜50℃の高温からの温度制御が可能です。

1.1.5再循環空気制御システム(AIシリーズ)は、主にエレクトロニクス産業の高温および低温一定温度試験に適用されます。このシリーズは、水ではなく空気を通して冷却されます。

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