SUNDI -70℃〜250℃

動的温度制御システムの技術的パラメーター
メソッドの制御設定を変更し、システムが遅れるプロセスで可能な限り早く応答し、システムのオーバーシュートが最小になるようにします。 2つのPID（PIDは各グループの変数）制御ループ構造（2組の制御ループとして知られています）：メイン回路と回路から、設定としてループ出力からのメイン制御ループ。

メソッドの制御設定を変更すると、できるだけ早くレスポンスがシステムの処理の中で最小のシステムのオーバーシュートに遅れます。制御ループの2つのセットとして知られている2つのPID（PIDは、各グループの変数）制御ループの構造によって制御されます：メイン回路と回路から、設定としてループ出力からのメイン制御ループ。 PVを持つフィードフォワードシステム、PV出力のマスターPIDループ演算結果、および温度ループの制御を介してフィードフォワード信号をフィードフォワード信号として、温度制御システムの精度を保証します。

モデル		SUNDI-725W	SUNDI-735 SUNDI-735W	SUNDI-755 SUNDI-755W	SUNDI-775 SUNDI-775W	SUNDI-7A10W	SUNDI-7A15W
メディア温度範囲		-70℃～+250℃
制御システム		フィードフォワードPID、モデルなし自己ツリーアルゴリズム、PLCコントローラ
温度制御モード選択		材料温度制御と設備輸出温度制御モードは自由に選択できます。
温度差制御		設備の輸出温度と反応物質温度の温度差は制御でき、設定できます。
プログラム編集		5のプログラムが作成できます。各プログラムは40段のステップが作成できます。
通信プロトコル		MODBUS RTUプロトコルRS 485インターフェース
外部アクセス温度フィードバック		PT 100または4～20 mAまたは通信指定（デフォルトPT 100）
温度フィードバック		設備の熱伝導媒質の輸入温度、輸出温度、反応器の材料温度（外付け温度センサー）の三点温度
熱伝導媒質の温度制御精度		±0.5℃
反応物質の温度制御精度		±1℃
加熱電力 kW		2.5	3.5	5.5	7.5	10	15
冷凍能力 kW  AT	250℃	2.5	3.5	5.5	7.5	10	15
	100℃	2.5	3.5	5.5	7.5	10	15
	20℃	2.5	3.5	5.5	7.5	10	15
	-20℃	2	3	4.9	6	8.5	14
	-40℃	1.3	1.8	2.3	3.1	4	8.8
	-60℃	0.4	0.55	0.75	0.9	1.2	2.8
流量圧力max  L/min bar		20	35	35	50	60	110
		2	2	2	2	2.5	2.5
循環ポンプ		LNEYAの磁力駆動ポンプ
圧縮機		フランスTecumseh/Emerson				イタリアDORIN/Carlyle/Emerson
膨張弁		Danfoss/Emerson热力膨張弁+Emerson电子膨張弁
蒸発器		Danfoss/KAORI板式熱交換器
操作パネル		7インチカラータッチパネル、温度曲線表示、記録
安全防護		自己診断機能があります。冷凍機の過負荷保護、高圧圧力スイッチ、過負荷リレー、熱保護装置など様々な安全保障機能があります。
密閉循環システム		全システムは全密閉システムで、高温時にはオイルミストがなく、低温では空気中の水分を吸収しません。システムは運行中に高温のために圧力を上昇させず、低温では自動的に熱伝導媒体を補充します。
冷凍剤		R-404A/R23混合冷凍剤
インターフェースサイズ		G1/2	G3/4	G3/4	G1	G1	G1
水冷タイプ W 温度 20度		900L/H 1.5bar~4bar G1/2	1200L/H 1.5bar~4bar G3/4	1800L/H 1.5bar~4bar G3/4	2300L/H 1.5bar~4bar G3/4	3200L/H 1.5bar~4bar G1	4500L/H 1.5bar~4bar G1 1/8
水冷尺寸 cm		55*100*175	55*100*175	55*100*175	70*100*175	70*100*175	80*120*185
風冷尺寸 cm		/	70*100*175	70*100*175	70*100*175	/	/
重さkg		190	275	320	370	370	420
電源 380V 50HZ		5.2kW	8kW	11kW	15kW	20kW	28kW

冷凍加熱温度制御システムの典型的な応用

高圧反応容器の冷熱源の動的温度制御、二重層ガラス反応ケトルの動的温度制御、二重層反応炉の冷温源の動的温度制御。

マイクロチャネルリアクタサーモスタット制御、小型温度制御システム、蒸気供給システム温度制御、材料低温エージング試験。
化学薬品による低温源熱源、半導体装置の冷却加熱および真空チャンバの加熱温度の温度制御が制御される。

冷凍の温度制御システムの利点と機能

温度範囲は120〜350で、優れたユニークで高精度のインテリジェントな温度制御が可能です。
0.5〜1200kWの高い冷却能力、最高の生産安定性と繰り返し可能な結果
多機能警報システムと安全機能、プレート熱交換器、チューブ型ヒーターを使用して加熱と冷却の速度を上げます。
7インチと10インチカラーTFTタッチスクリーングラフィックスディスプレイ、磁気駆動ポンプを使用し、再シール漏れの問題はありません。
フル気密システム、熱伝導率の高い液体寿命、非常に広い温度範囲、液体媒体を交換する必要はありません。
超高温冷却技術は、高温の300度から直接冷却することができます。
原理と機能はスタッフを使用することに多くの利点があります：体内の熱伝導媒体の空洞の膨張が空気中の酸素（および室温〜60度の膨張タンク温度）に接触するだけで吸収される熱伝導媒体が低くなります酸化および空気湿気の危険性がある。
高温で熱伝導媒体が蒸発せず、加圧なしで-80~190度、-70~220度、-88~170度、-55~250度、-30~300度の連続温度制御が可能です。
フルクローズドパイプの設計を採用し、高効率のプレート熱交換器を採用し、熱伝導液体の需要を減らし、システムの熱利用率を向上させ、急速な持ち上げ温度に達する。コンテナで閉じたシステムの熱伝導媒体は、高温または低温、室温に60℃までの膨張タンクの温度、水分と揮発性を吸収するリスクを実行する熱伝導媒体を減らすことができるかどうか、コンテナ内の循環に参加しない熱伝導媒体。